thermocera薄膜實驗設備介紹
【MiniLab系列柔性薄膜實驗設備】可根據各種客戶要求模塊化配置進行定制。 我們還滿足高規格要求，如多路濺射、氣相沉積、多維同步成膜和多腔室系統。 所有組件都存儲在 19 英寸機架（單、雙、三）的緊湊框架中，所有操作和數據管理都可以通過單個 7 英寸觸摸面板（或 Windows PC）集中管理。 我們通過與手套箱無縫連接、氣相沉積掩模/基板自動轉換器、去除 1D/PMMA 等抗蝕劑的“軟蝕刻"和晶圓級石墨烯合成設備 [nanoCVD-WGP（MiniLab-2 的應用設備）]等原創技術為研究和開發做出貢獻。
真空沉積（金屬和有機材料）
磁控濺射
電子束沉積
射頻/直流等離子體蝕刻
退火
熱CVD
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由于它是模塊化的內置類型，因此可以根據所需的膜類型和工藝組裝專用機器。 靈活的緊湊型實驗設備，可用于各種用途。
通過將PVD腔室存儲在GB中，可以在“無氧/無濕氣"的實驗環境中無縫執行氣相沉積，飛濺和退火等所有操作。
Φ3英寸和Φ4英寸晶圓尺寸的石墨烯合成器。 通過抑制雜質高速合成清潔、高質量的石墨烯。 它可用于熱CVD或低溫/高溫等離子CVD。
緊湊型臺式熱壁式熱CVD系統。 4.工藝氣體系統，高精度APC工藝壓力控制。 均勻加熱實驗可以在反應管中的穩定氣氛中進行。
藍波半導體 PLD1000
